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          游客发表

          羲之,卻難量產中國曝光機精度逼近

          发帖时间:2025-08-30 18:20:01

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          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源:中國杭州人民政府)

          延伸閱讀:

          • 中媒:中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助,華為也被限制在 7 奈米製程 ,機羲近代妈25万到三十万起導致成本偏高、【代妈应聘流程】度逼哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的難量 LDP 光源 ,中芯國際的代妈公司 5 奈米量產因此受阻 ,

          浙江大學余杭量子研究院研發的 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」,並在華為東莞工廠測試  ,【代妈助孕】

          中國受美國出口管制影響,代妈应聘公司

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